Os alvos de pulverização catódica são feitos através de vários processos de fabrico que dependem das propriedades do material e da sua aplicação pretendida.
Os métodos comuns incluem fusão e fundição a vácuo, prensagem a quente, prensagem a frio e sinterização, e processos especiais de sinterização por prensagem.
Estes processos garantem a produção de alvos de alta qualidade, quimicamente puros e metalurgicamente uniformes, utilizados na deposição por pulverização catódica para criar películas finas.
4 Processos de fabrico essenciais explicados
1. Fusão e fundição a vácuo
Este processo envolve a fusão das matérias-primas no vácuo para evitar a contaminação e, em seguida, a sua fundição na forma desejada.
Este método é particularmente eficaz para materiais que requerem elevada pureza.
2. Prensagem a quente e prensagem a frio com sinterização
Estes métodos envolvem a prensagem de materiais em pó a temperaturas elevadas ou à temperatura ambiente, seguida de sinterização para unir as partículas.
A prensagem a quente atinge normalmente densidades mais elevadas e melhores propriedades mecânicas.
3. Processo especial de sinterização por prensagem
Este é um processo adaptado a materiais específicos que requerem condições únicas para uma densificação e ligação óptimas.
4. Prensagem a quente em vácuo
Semelhante à prensagem a quente, mas efectuada no vácuo para aumentar a pureza e evitar a oxidação.
Forma e tamanho
Os alvos de aspersão podem ser fabricados em várias formas e tamanhos, geralmente circulares ou retangulares.
No entanto, as limitações técnicas podem exigir a produção de alvos multi-segmentados, que são depois unidos utilizando juntas de topo ou biseladas.
Garantia de qualidade
Cada lote de produção é submetido a rigorosos processos analíticos para garantir a conformidade com normas de alta qualidade.
Um certificado de análise acompanha cada remessa, garantindo as propriedades e a pureza do material.
Aplicação na deposição de filmes finos
Os alvos de pulverização são cruciais na deposição por pulverização, uma técnica utilizada para produzir películas finas para aplicações como semicondutores, células solares e componentes ópticos.
Os alvos, feitos de metais puros, ligas ou compostos, são bombardeados com iões gasosos, fazendo com que as partículas sejam ejectadas e depositadas num substrato, formando uma película fina.
Reciclagem
Os alvos de pulverização catódica são uma fonte valiosa de sucata de metais preciosos devido à sua composição e às aplicações de alto valor que servem, como em semicondutores e chips de computador.
A reciclagem destes alvos não só conserva os recursos, mas também reduz os custos na produção de novos materiais.
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