A máquina de deposição de vapor químico assistida por plasma (PACVD) é uma ferramenta de fabrico de semicondutores que ajuda a depositar películas finas de vários materiais num substrato a baixas temperaturas, em comparação com a deposição de vapor químico normal. Funciona através da introdução de gases reagentes entre eléctrodos paralelos, onde o gás é convertido em plasma, conduzindo a uma reação química que deposita os produtos da reação no substrato. Estas máquinas são essenciais no fabrico moderno de semicondutores, oferecendo uma excelente uniformidade da película, um processamento a baixa temperatura e um elevado rendimento. Como a procura de dispositivos electrónicos avançados continua a crescer, a máquina PACVD desempenhará um papel cada vez mais importante na indústria de semicondutores.
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pacvd
Máquina de revestimento PECVD de deposição por evaporação reforçada por plasma
Número do item : KT-PED
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Obtenha sua cotação agora! Deixe um recado Obtenha um orçamento rápido Via WhatsappOferecemos as melhores soluções de máquinas de Deposição de Vapor Químico Assistido por Plasma (PACVD) para a produção de películas finas de alta qualidade. As nossas máquinas utilizam a Deposição de Vapor Químico Assistido por Plasma (PACVD) para criar películas finas com excelente uniformidade e aderência. As nossas máquinas estão disponíveis numa variedade de formatos, incluindo CVD de baixa pressão e CVD com plasma remoto. Oferecemos também um serviço de conceção à medida para satisfazer as necessidades específicas dos nossos clientes. Com o nosso vasto portefólio de soluções, garantimos que temos a solução padrão adequada que irá satisfazer as suas necessidades.
Aplicações da máquina PACVD
- Deposição de películas finas para dispositivos electrónicos
- Revestimento de células solares e dispositivos fotovoltaicos
- Fabrico de revestimentos antirreflexo para dispositivos ópticos
- Produção de revestimentos resistentes ao desgaste para ferramentas de corte e peças de máquinas
- Desenvolvimento de revestimentos de barreira para embalagens de alimentos para evitar a contaminação
- Criação de revestimentos biocompatíveis para dispositivos médicos
- Produção de revestimentos de proteção para peças de automóveis
- Fabrico de revestimentos para componentes aeroespaciais
- Desenvolvimento de revestimentos para sistemas microelectromecânicos (MEMS)
- Criação de revestimentos para aplicações nanotecnológicas
Vantagens da máquina PACVD
- Baixa temperatura de deposição
- Elevada eficiência de deposição
- Parâmetros controláveis
- Boas propriedades dieléctricas das películas finas depositadas
- Baixa tensão mecânica nas películas finas depositadas
- Boa cobertura e uniformidade das películas finas depositadas
A nossa máquina PACVD é a solução perfeita para quem procura uma deposição de películas finas de alta qualidade e a preços acessíveis. A nossa máquina utiliza o método de deposição de vapor químico enriquecido com plasma (PACVD), que permite a deposição a temperaturas de substrato mais baixas do que outros processos de deposição. Não só a nossa máquina PACVD é económica, como também oferecemos serviços de personalização completos para satisfazer as suas necessidades específicas.
FAQ
Como é Que O PACVD Funciona?
PACVD é PECVD?
Quais São As Vantagens Da Utilização Do PACVD?
Quais São As Aplicações Mais Comuns Do PACVD?
Que Factores Devem Ser Considerados Na Seleção De Um Sistema PACVD?
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